第117章 真空炉研制成功（第2 / 2页）

间由钢圈密封，瓦和瓦之间模仿发动机的活塞运动，满足了密封和防高温的设计要求。

整个装配持续了3天，最后王工和易师傅都参与了检查，大家一致认为没有问题后，大家推举李国成启动设备。

李国成也没有推辞，信心十足的按动了启动按钮，顿时一阵鼓风机的声音灌满了整个实验室。

40分钟后，真空度没有任何意外，达到了负5次幂的设计要求。所有参与者群情激奋，欢呼鼓掌。先不说半导体应用，就是真空炉本身，就是国内创举，就可以单独形成技术成果上报。

真空炉的研究成功，意味着华夏在真空淬火和回火、真空退火、真空固溶、真空烧结、真空化学热处理以及真空镀膜等工艺方面取得了突破性的进展。

负5次幂这个指标是李国成的念想，他想在现在就实现90年代的国内最高指标。因为信息不足，他不知道现在国外最高指标是多少，但是料想也不会太高。

以后半导体单晶柱的拉取，工作在负3次幂就满足要求，这样的设计指标为后续半导体设计留出了极大的空间。

真空炉的研制成功，标志着半导体研究可以提上了日程，现在的李国成是动力十足。

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